下单:CP截面抛光仪/氩离子抛光仪 常见问题

CP截面抛光仪/氩离子抛光仪

仪器型号: I9520 CP;Lecia EM TIC 3X等


样品要求

1. 样品状态:粉末,块状,薄膜;

2. 粉末样品要求:500mg以上,体积1ml以上;

3. 截面制备样品要求:长宽厚小于20*20*10mm,如样品可剪裁可大一些;

4. 平面抛光样品要求:以待抛光区域为中心点,样品直径不超过25mm、厚度0~20mm,(超出部分需要磨平);

5. 样品本身要求:无毒,无放射性,无污染,成分稳定不易挥发,易氧化吸水的需要真空保存,需要特殊位置切割的请附件说明,基于电镜分辨率限制,样品颗粒需要≥100nm才能观察。

6. 送样前需要对样品进行预处理:样品预磨抛,样品要磨平,样品的上下表面要平行,样品抛光面至少用4000目砂纸磨平,在显微镜下看起来光滑,不粗糙。


测试案例

以下为CP截面抛光处理后的样品拍摄的SEM图片(请注意:此项目仅制样不拍摄,如需拍摄SEM需另外预约)

1. 锂电正极

 

2. 电池隔膜

 

3. 正极颗粒

 

   



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