CP截面抛光仪/氩离子抛光仪
仪器型号: I9520 CP；Lecia EM TIC 3X等
1. 样品状态：粉末，块状，薄膜；
2. 粉末样品要求：500mg以上，体积1ml以上；
3. 截面制备样品要求：长宽厚小于20*20*10mm，如样品可剪裁可大一些；
4. 平面抛光样品要求：以待抛光区域为中心点，样品直径不超过25mm、厚度0~20mm，（超出部分需要磨平）；
5. 样品本身要求：无毒，无放射性，无污染，成分稳定不易挥发，易氧化吸水的需要真空保存，需要特殊位置切割的请附件说明，基于电镜分辨率限制，样品颗粒需要≥100nm才能观察。
6. 送样前需要对样品进行预处理：样品预磨抛，样品要磨平，样品的上下表面要平行，样品抛光面至少用4000目砂纸磨平，在显微镜下看起来光滑，不粗糙。
以下为CP截面抛光处理后的样品拍摄的SEM图片（请注意：此项目仅制样不拍摄，如需拍摄SEM需另外预约）
1. 锂电正极
2. 电池隔膜
3. 正极颗粒
CP截面抛光仪常见问题：
1. 设备载负过大：如果抛光压力过高，可能会导致样品损耗过快。
2. 样品损坏：由于过度磨损或不当的操作，可能导致样品损坏。
3. 抛光不均匀：抛光布磨损不均或者抛光液使用不当造成抛光效果不均。
4. 温度控制问题：如果温度控制不准确，可能会影响抛光效果。
5. 研磨介质流失：抛光时，研磨介质可能会过早耗尽或不均匀分布，影响抛光效果。
6. 噪音过大：设备运行时噪音大，可能是由于设备故障或装配件松动。
7. 抛光液渗透问题：抛光液可能不会均匀渗透到抛光布上，导致抛光效果不一致。
8. 操作界面不灵敏：触摸屏或按键响应不灵敏，可能是由于设备老化或者故障。
氩离子抛光仪常见问题：
1. 离子束方向性差：离子束若不均匀，则可能影响抛光的均匀性。
2. 样品表面损伤：离子能量过高或抛光时间过久可能会导致样品表面损伤。
3. 离子源问题：离子源可能不稳定或耗尽，影响抛光效果。
4. 真空泄漏：真空室密封不严，导致真空度不足，影响抛光效果。
5. 样品污染：在离子抛光过程中，可能会有污染物质沉积于样品表面。
6. 电压和电流不稳定：电力供应不稳定会导致离子束参数变化，影响抛光效果。
7. 冷却系统问题：冷却系统不好可能导致设备过热，影响性能。
8. 机械故障：轴承、轴承座或其他机械零件磨损或损坏会导致设备故障。
9. 样品架不到位：样品架定位不准确，影响离子束对样品的抛光效果。
10. 电子控制系统问题：PLC或微处理器等电子系统故障可能导致设备无法正常工作。
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