下单:高真空镀膜仪 常见问题

高真空镀膜仪

仪器型号: LEICA-EM ACE600


样品要求

离子溅射电流15-150mA连续可调,厚度1-1000nm。

脉冲碳丝蒸发(专利) 镀膜厚度:1-100nm可调。

磁性不可测试,三方向电动马达驱动样品台。

精密增加试样表面导电膜!

1. 清洁度:样品表面需要清洁无尘,以确保膜层与基底良好结合,减少膜层中的杂质和缺陷。

2. 平整度:样品的表面应尽可能平整,以保证膜层的均匀性。

3. 大小和形状:样品的大小和形状需适应镀膜设备的样品架或夹具,以保证其能够被稳稳地固定在镀膜室内。

4. 材料兼容性:样品材料需要与镀膜材料以及镀膜过程中可能使用的溶剂、清洗液和环境气体兼容,以防止化学反应或物理损伤。

5. 温度稳定性:样品需要能够在镀膜过程中的高真空环境和可能的温度变化下保持稳定,不变形、不损坏。

6. 表面处理:表面可能需要进行预处理,如清洗、抛光、钝化等,以提高膜层的附着力和质量。

7. 导电性要求:对于某些镀膜技术(如磁控溅射),样品需要具有一定的导电性,以便在镀膜过程中形成均匀的电磁场。

8. 力学稳定性:样品在镀膜过程中需要保持稳定,不发生位移或振动,以免影响膜层的均匀性和质量。

9. 无磁场干扰:某些镀膜技术(如磁控溅射)需要在强磁场中进行,样品不应含有能被磁场磁化的元素,以免影响磁场的均匀性。

10. 无水分和挥发性物质:样品在高真空环境下不应释放水分或其他挥发性物质,以免污染镀膜室和影响膜层质量。

11. 无有害气体排放:样品在高温或真空环境下不应释放有害气体,以免影响操作人员健康和设备安全。

12. 样品加工后的保存:样品在镀膜前通常需要保存在干燥、清洁的环境中,以防表面受到污染。


测试案例
常见问题

高真空镀膜仪的真空度可达2×10-6mbar,镀膜细腻均匀,能够自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程。

1. 压力问题

- 真空度达不到要求:可能是真空泵性能下降、漏气、阀门损坏、密封不良等引起的。

- 解决方案:检查和维修真空泵;检查管路连接和密封;修复或更换漏气部件。

2. 电源问题

- 电源不稳定或功率不匹配:可能影响溅射质量和效率。

- 解决方案:检查电源线和连接;确保电源稳定性;匹配合适的功率。

3. 溅射靶材问题

- 靶材表面不均匀或污染:导致膜层不均匀或成分不纯。

- 解决方案:清洁或更换靶材。

4. 样品问题

- 样品表面污染或未清洁:影响膜层附着。

- 解决方案:清洁样品表面。

5. 管路堵塞

- 抽气管路或冷凝器堵塞会导致真空度下降。

- 解决方案:定期清理管路和冷凝器。

6. 机械问题

- 转靶旋转不均匀或卡死:影响溅射效率。

- 解决方案:检查和修复转靶的驱动系统。

7. 膜层质量问题

- 膜层厚度不均匀、孔洞或颗粒:可能由溅射条件、靶材或样品不平稳引起。

- 解决方案:优化溅射条件;检查靶材和样品。

8. 溅射速率不稳定

- 溅射速率受多种因素影响,如真空度、溅射电流、靶材温度等。

- 解决方案:调整溅射参数;监控溅射过程中的各种条件。

9. 温度控制问题

- 靶材或样品温度失控可能导致镀膜质量受损。

- 解决方案:校准温度传感器;确保冷却系统正常工作。

10. 控制系统问题

- 控制系统故障可能导致镀膜参数错误。

- 解决方案:检查控制软件和硬件;进行必要的软件更新或硬件更换。

11. 真空室内污染

- 真空室内有油蒸汽或其他污染物,影响膜层质量。

- 解决方案:定期更换泵油;清洁真空室内壁。

12. 气体流量问题

- 溅射气体流量不稳定或不准确影响溅射过程。

- 解决方案:检查气体流量计;清洁或更换流量控制元件。

13. 电弧放电

- 可能由气体流量不足、溅射功率过高或靶材表面问题引起。

- 解决方案:调整气体流量;降低溅射功率;清洁或更换靶材。

14. 设备漏气

- 设备密封件老化或损坏可能导致漏气。

- 解决方案:检查并更换密封件。

15. 报警和安全问题

- 设备在运行过程中可能出现各种报警,需要及时处理。

- 解决方案:根据报警提示检查对应的系统,并进行必要的维修。


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