1. 表面清洁度：
- 样品表面必须干净，无油脂、污染物和灰尘。因为这些污染物会影响溅射过程和膜层的附着力。
2. 表面粗糙度：
- 样品表面的粗糙度需符合特定要求，以保证膜层的均匀性和附着力。
3. 大小和重量：
- 样品的大小和重量要适合镀膜仪的承载能力，放置在样品架上时不会超重或超尺寸。
4. 形状和几何特征：
- 样品的形状和几何特征应允许在真空室内部定位。复杂的形状可能需要特定的夹具或支撑。
5. 耐温性：
- 样品应能够承受溅射过程中可能达到的温度，即使冷溅射是在低温下进行，样品也应能承受设备的最低工作温度。
6. 耐高真空：
- 样品需要能够在高真空条件下稳定，没有出气或者挥发性物质释放。
7. 电导性：
- 某些类型的溅射镀膜需要样品具备一定的电导性，以便于电荷的释放，防止电荷积累导致放电。
8. 化学稳定性：
- 样品应不会与溅射靶材或溅射气体发生化学反应，影响膜层的纯度和性能。
9. 机械稳定性：
- 在长时间溅射过程中，样品应保持固定，不发生位移，这可能需要特定的夹具或固定的装置。
10. 热稳定性：
- 样品不应该在溅射过程中发生热变形或损坏，特别是在沉积高熔点材料时。
11. 无磁性：
- 对于某些特定的溅射过程，样品应无磁性，以免干扰溅射过程。
12. 环境适应性：
- 样品应该能够适应溅射室内可能存在的环境条件，如湿度、温度变化等。
13. 膜层兼容性：
- 样品材料应与所沉积的膜层材料兼容，以避免因材料相互排斥而导致的膜层缺陷。
14. 预处理要求：
- 有时溅射之前需要对样品进行预处理，如清洗、活化、粗糙化等。
