正电子湮灭都有哪些技术，用来测试什么？

主要有正电子寿命测量、湮没γ角关联测量和湮没谱线多普勒增宽测量三类。

寿命谱：

22Na放射的正电子入射到测试样品中,同其中的电子发生湮没，放出γ射线。用1.27 MeV的γ光子标志正电子的产生,并作为起始信号,511 keV的湮没辐射γ光子标志正电子的“死亡”，并作为终止信号，两个信号之间的时间就是正电子的寿命。

双γ角关联：

正电子源通常为64Cu、22Na、58Co, 测量时相对于固定探头以z方向为轴转动另一探头,测出符合计数率随角度的分布,就可以得到电子在某个方向上的动量分布。

多普勒增宽谱：

使用高能量分辨率Ge(Li)或高纯锗半导体探测器，测量湮没辐射的能谱；

目前平台仅提供寿命谱模式；

粉末样品可以测试吗？

只能测试块体，需要压片后送样；

正电子湮灭数据拟合用什么软件？

PATFIT、freevolumef；

正电子湮灭是如何判断不同缺陷类型的？

不同缺陷寿命不同，通过寿命拟合，可以判断缺陷的类型，比如纳米孔、离子键导致的缺陷都可以通过寿命值大小来区分；