紫外光电子能谱UPS
仪器型号: ThermoFischer，ESCALAB 250Xi
1、样品状态：薄膜，样品平面尺寸一般要求5*5mm，最大不超过8*8mm，可以为正方形或者长方形，厚度最好不要超过1mm，样品要求具有一定导电性。
2、粉体样品需要制备为薄膜，具体制备方法及要求如下：先把粉末样品分散在水或乙醇里（浓度尽量低点），滴在硅片上烘干，可以多循环几次，一定要保证膜表面尽量平整、均匀、连续、整洁，硅片尺寸5*5mm-5*8mm，厚度几百μm，涂完膜干燥后膜层以完全覆盖住硅片即可（膜层厚度10-50nm即可），膜层的电阻最好小于10兆欧，最大不能超过30兆欧。
1、UPS图谱
2、UPS原始excel，VGD数据
1、测试结果为什么跟文献或者预期有偏差？
答：第一，由于UPS测量中光激发电子的动能在0-20eV范围，在此能量区间的电子逃逸深度较小，且随能量急剧变化，材料表面的导电性、污染程度和粗糙度等因素会对测量结果产生较大影响，轻则导致谱图的峰位移动和峰形变化，重则导致无信号。UPS适用于分析表面均匀洁净的导体以及导电性较好的半导体薄膜材料。对于合成的粉末样品，影响因素较多，UPS测试存在一定风险 ； 第二，UPS测试过程中，紫外光的扫描范围仅为样品中的某个微小区域，如果样品制备不均匀，或者测试区域恰好条件不佳，也可能会影响测试结果；
2、测试老师给出的数据分析结果准确吗，是否可以调整？
答：测试老师给出的只是分析结果仅供参考，因为测试老师不知道每个样品具体是什么材料，只能根据自己的习惯和经验大致作图分析，所以我们一般还需要根据对样品性质的了解，对数据分析结果微调甚至大的调整。
3. 测试结果为什么跟文献或者预期有偏差？
第一，由于UPS测量中光激发电子的动能在0-20eV范围，在此能量区间的电子逃逸深度较小，且随能量急剧变化，材料表面的导电性、污染程度和粗糙度等因素会对测量结果产生较大影响，轻则导致谱图的峰位移动和峰形变化，重则导致无信号。UPS适用于分析表面均匀洁净的导体以及导电性较好的半导体薄膜材料。对于合成的粉末样品，影响因素较多，UPS测试存在一定风险 ； 第二，UPS测试过程中，紫外光的扫描范围仅为样品中的某个微小区域，如果样品制备不均匀，或者测试区域恰好条件不佳，也可能会影响测试结果；
4. 测试老师给出的数据分析结果准确吗，是否可以调整？
测试老师给出的只是分析结果仅供参考，因为测试老师不知道每个样品具体是什么材料，只能根据自己的习惯和经验大致作图分析，所以我们一般还需要根据对样品性质的了解，对数据分析结果微调甚至大的调整。
5. UPS是否需要清洁表面
因UPS采集信息较浅，若样品表面容易变质， 可清洁掉表面材料（一般10nm内），测试清洁后的样品表面
6. 偏压和无偏压的数据分别时候时候用？
①无偏压模式：验证样品导电性、测定价带顶；
②偏压模式：测定功函数、价带顶，验证半导体类型（P型/N型）。
